產品介紹

一、乳膠源（純品）簡介 : 本品未摻入任何摻雜源

客戶可根據(jù)生產技術需求，在本乳膠源中可摻入所需的磷、硼、砷、銻、鋁等各種一定濃度的雜質，雜質含量可以在較大范圍內進行調節(jié)；使之成為摻雜二氧化硅乳膠，從而可應用于雜質擴散，使用摻雜二氧化硅乳膠，可得到一系列其它目前常用的源所沒有的優(yōu)點。

乳膠源涂布在硅片表面后經擴散不會損害硅的表面，擴散中又不存在如液態(tài)磷源產生的偏磷酸等的沾污，因而硅片表面清潔無合金點加上乳膠源在涂布和擴散中有毒雜質析出少，特別是用磷砷等有劇毒的物質作擴散雜質源時，使用乳膠源就比液態(tài)源安全方便得多，而且還能延長石英管的使用壽命等等。

二、摻磷乳膠源 (半導體芯片擴散摻雜源) 新材料

摻磷乳膠源簡介

摻磷乳膠源新材料產品，是專為二極管制造而研制的創(chuàng)新發(fā)明成果，主要應用于半導體芯片擴散的新材料：榮獲第十六屆中國科學家論壇2019中國科技創(chuàng)新發(fā)明成果獎，榮獲2019(第五屆)華尊獎 中國商界十大行業(yè)創(chuàng)新企業(yè)：2020年6月獲國家知識產權局授權發(fā)明專利；

應用范圍：半導體芯片擴散摻雜源。

質量效果：摻磷乳膠源新材料經客戶十多年使用，用戶反映效果良好，擴散結果系數(shù)相對集中，片子結深均勻，磷花較細、硅片表面清潔、厚度均勻硅晶格保持完整、無合金點；擴散后器件表面清潔干燥，不會損害硅的表面有利于光刻。

優(yōu)點：設備簡單、工序少、一步工藝即可完成擴散，源濃度可以在較大范圍內調節(jié)、基本無毒雜質析出等，比目前常用的液態(tài)源、固態(tài)源具有更多的優(yōu)越性，基本無毒無氣味更環(huán)保,比常規(guī)工藝更簡便、穩(wěn)定、可靠、安全；同時擴散中又不受氣流影響，在同一爐中不但同一片大園片上一致性好，而且片間均勻性也很好，其結果重復性也相當好。

操作工藝：

1. ? ? 采用涂布法涂源：采用中心自轉式涂佈機。開動馬達啟動涂佈機，使硅片涂膠吸附盤高速旋轉，轉速約3000-4000轉 /分，將清潔的硅片放在涂膠吸附盤上，用真空吸附法吸住片子，用筆刷將源涂在硅片上，讓源佈滿整個硅片。涂源時要注意：使用時先將源搖勻

（不用時要用保鮮膜密封好存儲冷藏柜），源量要均勻佈滿整個硅片表面，涂源的涂膠盤轉動要平穩(wěn)，不可偏心。涂源量的多少、涂膠盤的轉速、涂膠時間等等均對源膜厚有影響。為保證產品參數(shù)一致性，必須嚴格掌握好涂源條件，有條件的話操作者最好固定；整個涂源

過程必須在凈化環(huán)境下進行，相對濕度 必須小于40%。

2. ? ? 預烘：目的是去除乳膠膜中過量的溶劑，增加膜和硅片的粘附性。預烘溫度200°C 左右。將插好片的石英舟放在溫度已升到所需值的擴散石英管口，時間30分鐘 左右。

3. 擴散：預烘后即可將片子推入恒溫區(qū)中進行擴散，擴散溫度和時間磷擴→1220℃/3.5H(R口系數(shù)0.19-0.20之間)。

使用和貯藏注意事項：

1、遠離火種、熱源。包裝必須密封，切勿受潮。應與易燃、可燃物，堿類等分開存放。防止包裝及容器損壞。雨天不宜運輸。

2、用多少，倒多少。因源易揮發(fā)，要迅速涂片，原裝瓶蓋子蓋好。

3、磷源要放2~5度冰箱保存，千萬不可靠冰箱壁放。

4、使用本品操作時注意手防護：戴防毒物滲透手套。

保質期：60天

包裝：紙箱內置泡沫箱，每箱10瓶裝（10L)，塑料瓶裝：1L凈液。

發(fā)明專利證書：證書號第3850860號 ? 產品專利號：ZL ?2018 ?l ?0555900.0

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市場反饋：經使用單位檢測報告數(shù)據(jù)反饋對比：

國產磷紙

擴散源名稱 ? ? ? ? ? ? ? 標準 ? ? ? ? ? 擴散條件 ? ? ? ? ?結果

磷擴散后的方塊系數(shù) ? 0.17±0.05 ? ? ? ?1240℃.5H ? ? ?0.201-0.212

硼擴散后磷面系數(shù) ? ? 0.085±0.01 ? ? ? 1263.29H ? ? ? 0.095-0.112

?

美國進口磷紙

擴散源名稱 ? ? ? ? ? ? ? 標準 ? ? ? ? ? 擴散條件 ? ? ? ? ?結果

磷擴散后的方塊系數(shù) ? ?0.185±0.005 ? ? 1200℃.6H ? ? ?0.181-0.192

硼擴散后磷面系數(shù) ? ? ?0.080±0.01 ? ? ?1260℃.46H ? ? ? ? ?0.078-0.084

? 摻磷乳膠源

擴散源名稱 ? ? ? ? ? ? ? 標準 ? ? ? ? ? 擴散條件 ? ? ? ? ?結果

磷擴散后的方塊系數(shù) ? ?0.185±0.005 ? ? 1200℃.6H ? ? ?0.181-0.195

硼擴散后磷面系數(shù) ? ? ?0.080±0.01 ? ? ?1260℃.46H ? ? ? ? ?0.078-0.084

GPP點測良率99.3%, 封裝電性:VB ≥1100V、 VF:≤0.98V、 ?TRR:≥1000ns

綜上反饋的數(shù)據(jù)比對證明，使用摻磷乳膠源與使用美國進口磷紙的結果質量無太大區(qū)別，并且優(yōu)于國產磷紙；能夠滿足生產

質量要求，摻磷乳膠源作為半導體芯片擴散新材料，逐漸受到生產廠家重視和認可接受，并被推廣應用。

價格優(yōu)勢：

經過核算：使用摻磷乳膠源（半導體芯片擴散）新材料，每一片硅片涂源成本在0.1~0.2元左右，而使用美國進口磷紙作為擴散材料，每一片硅片涂源成本在2-3元之間甚至更高；使用國產磷紙作為擴散材料，每一片硅片涂源成本在1-2元之間；通過比對使用摻磷乳膠源作為擴散材料，極其明顯地顯現(xiàn)出價格優(yōu)勢，極大地降低了企業(yè)生產成本；本產品己受到越來越多的企業(yè)的接納。

目前客戶分佈：江蘇、浙江、山東、四川

三、摻硼乳膠源 (半導體芯片擴散摻雜源) 簡介

應用范圍：半導體芯片擴散摻雜源。

質量效果：摻硼乳膠源新材料擴散結果系數(shù)相對集中，片子結深均勻，磷花較細、硅片表面清潔、厚度均勻硅晶格保持完整、無合金點；擴散后器件表面清潔干燥，不會損害硅的表面有利于光刻。

優(yōu)點：設備簡單、工序少、一步工藝即可完成擴散，源濃度可以在較大范圍內調節(jié)、基本無毒雜質析出等，比目前常用的液態(tài)源、固態(tài)源具有更多的優(yōu)越性，基本無毒無氣味更環(huán)保,比常規(guī)工藝更簡便、穩(wěn)定、可靠、安全；同時擴散中又不受氣流影響，在同一爐中不但同一片大園片上一致性好，而且片間均勻性也很好，其結果重復性也相當好。

操作工藝：

采用涂布法涂源：采用中心自轉式涂佈機。開動馬達啟動涂佈機，使硅片涂膠吸附盤高速旋轉，轉速約3000-4000轉 /分，將清潔的硅片放在涂膠吸附盤上，用真空吸附法吸住片子，用筆刷將源涂在硅片上，讓源佈滿整個硅片。涂源時要注意：使用時先將源搖勻

（不用時要用保鮮膜密封好存儲冷藏柜），源量要均勻佈滿整個硅片表面，涂源的涂膠盤轉動要平穩(wěn)，不可偏心。涂源量的多少、涂膠盤的轉速、涂膠時間等等均對源膜厚有影響。為保證產品參數(shù)一致性，必須嚴格掌握好涂源條件，有條件的話操作者最好固定；整個涂源

過程必須在凈化環(huán)境下進行，相對濕度 必須小于40%。

使用和貯藏注意事項：

1、遠離火種、熱源。包裝必須密封，切勿受潮。應與易燃、可燃物，堿類等分開存放。防止包裝及容器損壞。雨天不宜運輸。

2、用多少，倒多少。因源易揮發(fā)，要迅速涂片，原裝瓶蓋子蓋好。

3、硼源要放2~5度冰箱保存，千萬不可靠冰箱壁放。

保質期：60天

包裝：紙箱內置泡沫箱，每箱10瓶裝（10L)，塑料瓶裝：1L凈液。

四、乙二醇乙醚

? ? ? ? ? ? ? 檢驗報告

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檢驗項目 ? ? ? ? ? ? ? ? 標準值檢 ? ? ? ? ? ? 驗結果

外觀 ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?無色透明液體 ? ? ? ? 無色透明液體

純度 ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 99.5 ? ? ? ? ? ? ? ?99.96

水分含量 ? ? ? ? ? ? ? ? ?0.10 max ? ? ? ? ? ?0.02

比重 ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?0.927～0.932 ? ? ? ?0.929

色度 ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 10 max ? ? ? ? ? ? ? 3

酸度 ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?100 max ? ? ? ? ? ? ?23

金屬離子雜質 ? ? ? ? ? ?鈉`鉀`鐵`銅`鉛 ? ? ? ≤ 5*10-5%

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銷售：

銷售部電話：021-56136513 ?021-56136514 ?021-56139808 ?400 0150 938

銷售部微信：18918330102

售后：

服務電話：021-66162608 ?18918330100 ? 18918330110

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