獲得榮譽(yù)

摻磷乳膠源新材料產(chǎn)品，是專為二極管制造而研制的創(chuàng)新發(fā)明成果，主要應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片擴(kuò)散的新材料：榮獲第十六屆中國科學(xué)家論壇2019中國科技創(chuàng)新發(fā)明成果獎(jiǎng)，榮獲2019(第五屆)華尊獎(jiǎng) 中國商界十大行業(yè)創(chuàng)新企業(yè)：2020年6月獲國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授權(quán)發(fā)明專利：2020年11月榮獲上海市高新技術(shù)企業(yè)。

應(yīng)用范圍：半導(dǎo)體芯片擴(kuò)散。

質(zhì)量效果：摻磷乳膠源新材料經(jīng)客戶十多年使用，用戶反映效果良好，擴(kuò)散結(jié)果系數(shù)相對(duì)集中，片子結(jié)深均勻，磷花較細(xì)、硅片表面清潔、厚度均勻硅晶格保持完整、無合金點(diǎn)；擴(kuò)散后器件表面清潔干燥，不會(huì)損害硅的表面有利于光刻。

優(yōu)點(diǎn)：設(shè)備簡單、工序少、一步工藝即可完成擴(kuò)散，源濃度可以在較大范圍內(nèi)調(diào)節(jié)、基本無毒雜質(zhì)析出等，比目前常用的液態(tài)源、固態(tài)源具有更多的優(yōu)越性，基本無毒無氣味更環(huán)保,比常規(guī)工藝更簡便、穩(wěn)定、可靠、安全；

同時(shí)擴(kuò)散中又不受氣流影響，在同一爐中不但同一片大園片上一致性好，而且片間均勻性也很好，其結(jié)果重復(fù)性也相當(dāng)好。

操作工藝：

1.采用涂布法涂源：采用中心自轉(zhuǎn)式涂佈機(jī)。開動(dòng)馬達(dá)啟動(dòng)涂佈機(jī)，使硅片涂膠吸附盤高速旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速約3000-4000轉(zhuǎn) /分，將清潔的硅片放在涂膠吸附盤上，用真空吸附法吸住片子，用筆刷將源涂在硅片上，讓源佈滿整個(gè)硅片。涂源時(shí)要注意：使用時(shí)先將源搖勻（不用時(shí)要用保鮮膜密封好存儲(chǔ)冷藏柜），源量要均勻佈滿整個(gè)硅片表面，涂源的涂膠盤轉(zhuǎn)動(dòng)要平穩(wěn)，不可偏心。涂源量的多少、涂膠盤的轉(zhuǎn)速、涂膠時(shí)間等等均對(duì)源膜厚有影響。為保證產(chǎn)品參數(shù)一致性，必須嚴(yán)格掌握好涂源條件，有條件的話操作者最好固定；整個(gè)涂源過程必須在凈化環(huán)境下進(jìn)行，相對(duì)濕度 必須小于40%。

2. 預(yù)烘：目的是去除乳膠膜中過量的溶劑，增加膜和硅片的粘附性。預(yù)烘溫度200°C 左右。將插好片的石英舟放在溫度已升到所需值的擴(kuò)散石英管口，時(shí)間30分鐘 左右。

3. 擴(kuò)散：預(yù)烘后即可將片子推入恒溫區(qū)中進(jìn)行擴(kuò)散，擴(kuò)散溫度和時(shí)間磷擴(kuò)→1220℃/3.5H(R口系數(shù)0.19-0.20之間)。

使用和貯藏注意事項(xiàng)：

1、遠(yuǎn)離火種、熱源。包裝必須密封，切勿受潮。應(yīng)與易燃、可燃物，堿類等分開存放。防止包裝及容器損壞。雨天不宜運(yùn)輸。

2、用多少，倒多少。因源易揮發(fā)，要迅速涂片，原裝瓶蓋子蓋好。

3、磷源要放2~5度冰箱保存，千萬不可靠冰箱壁放。

4、使用本品操作時(shí)注意手防護(hù)：戴防毒物滲透手套。

保質(zhì)期：60天

包裝：紙箱內(nèi)置泡沫箱，每箱10瓶裝（10L)，塑料瓶裝：1L凈液。

發(fā)明專利證書：證書號(hào)第3850860號(hào) ? 產(chǎn)品專利號(hào)：ZL ?2018 ?l ?0555900.0

產(chǎn)品制造商：上海美墅化學(xué)品有限公司

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市場反饋：經(jīng)使用單位檢測報(bào)告數(shù)據(jù)反饋：

國產(chǎn)磷紙

擴(kuò)散源名稱 ? ? ? ? ? ? ? 標(biāo)準(zhǔn) ? ? ? ? ? 擴(kuò)散條件 ? ? ? ? ?結(jié)果

磷擴(kuò)散后的方塊系數(shù) ? 0.17±0.05 ? ? ? ?1240℃.5H ? ? ?0.201-0.212

硼擴(kuò)散后磷面系數(shù) ? ? 0.085±0.01 ? ? ? 1263.29H ? ? ? 0.095-0.112

美國進(jìn)口磷紙?

擴(kuò)散源名稱 ? ? ? ? ? ? ? 標(biāo)準(zhǔn) ? ? ? ? ? 擴(kuò)散條件 ? ? ? ? ?結(jié)果

磷擴(kuò)散后的方塊系數(shù) ? ?0.185±0.005 ? ? 1200℃.6H ? ? ?0.181-0.192

硼擴(kuò)散后磷面系數(shù) ? ? ?0.080±0.01 ? ? ?1260℃.46H ? ? ?0.078-0.084

摻磷乳膠源

擴(kuò)散源名稱 ? ? ? ? ? ? ? 標(biāo)準(zhǔn) ? ? ? ? ? 擴(kuò)散條件 ? ? ? ? ?結(jié)果

磷擴(kuò)散后的方塊系數(shù) ? ?0.185±0.005 ? ? 1200℃.6H ? ? ?0.181-0.195

硼擴(kuò)散后磷面系數(shù) ? ? ?0.080±0.01 ? ? ?1260℃.46H ? ? ?0.078-0.084

GPP點(diǎn)測良率99.3%, 封裝電性:VB ≥1100V、 VF:≤0.98V、 ?TRR:≥1000ns

綜上反饋的數(shù)據(jù)比對(duì)證明，使用摻磷乳膠源與使用美國進(jìn)口磷紙的結(jié)果質(zhì)量無太大區(qū)別，并且優(yōu)于國產(chǎn)磷紙；能夠滿足生產(chǎn)質(zhì)量要求，摻磷乳膠源作為半導(dǎo)體芯片擴(kuò)散新材料，逐漸受到生產(chǎn)廠家重視和認(rèn)可接受，并被推廣應(yīng)用。

價(jià)格優(yōu)勢：

經(jīng)過核算：使用摻磷乳膠源（半導(dǎo)體芯片擴(kuò)散）新材料，每一片硅片涂源成本在0.1~0.2元左右，而使用美國進(jìn)口磷紙作為擴(kuò)散材料，每一片硅片涂源成本在2-3元之間甚至更高；使用國產(chǎn)磷紙作為擴(kuò)散材料，每一片硅片涂源成本在1-2元之間；通過比對(duì)使用摻磷乳膠源作為擴(kuò)散材料，極其明顯地顯現(xiàn)出價(jià)格優(yōu)勢，極大地降低了企業(yè)生產(chǎn)成本；本產(chǎn)品己受到越來越多的企業(yè)的接納。

目前客戶分佈：江蘇、浙江、山東、四川

銷售：

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