應用范圍：

應用范圍：半導體芯片擴散摻雜源。

質量效果：摻硼乳膠源新材料擴散結果系數相對集中，片子結深均勻，磷花較細、硅片表面清潔、厚度均勻硅晶格保持完整、無合金點；擴散后器件表面清潔干燥，不會損害硅的表面有利于光刻。

優點：設備簡單、工序少、一步工藝即可完成擴散，源濃度可以在較大范圍內調節、基本無毒雜質析出等，比目前常用的液態源、固態源具有更多的優越性，基本無毒無氣味更環保,比常規工藝更簡便、穩定、可靠、安全；同時擴散中又不受氣流影響，在同一爐中不但同一片大園片上一致性好，而且片間均勻性也很好，其結果重復性也相當好。

操作工藝：

采用涂布法涂源：采用中心自轉式涂佈機。開動馬達啟動涂佈機，使硅片涂膠吸附盤高速旋轉，轉速約3000-4000轉 /分，將清潔的硅片放在涂膠吸附盤上，用真空吸附法吸住片子，用筆刷將源涂在硅片上，讓源佈滿整個硅片。涂源時要注意：使用時先將源搖勻

（不用時要用保鮮膜密封好存儲冷藏柜），源量要均勻佈滿整個硅片表面，涂源的涂膠盤轉動要平穩，不可偏心。涂源量的多少、涂膠盤的轉速、涂膠時間等等均對源膜厚有影響。為保證產品參數一致性，必須嚴格掌握好涂源條件，有條件的話操作者最好固定；整個涂源

過程必須在凈化環境下進行，相對濕度 必須小于40%。

使用和貯藏注意事項：

1、遠離火種、熱源。包裝必須密封，切勿受潮。應與易燃、可燃物，堿類等分開存放。防止包裝及容器損壞。雨天不宜運輸。

2、用多少，倒多少。因源易揮發，要迅速涂片，原裝瓶蓋子蓋好。

3、硼源要放2~5度冰箱保存，千萬不可靠冰箱壁放。

4、使用本品操作時注意手防護：戴防毒物滲透手套。

保質期：60天

包裝：紙箱內置泡沫箱，每箱10瓶裝（10L)，塑料瓶裝：1L凈液。